第321章 怒吼的学术权威（2/3）
很了不起！”
胡一亭问：“奚工你留不留下？”
奚龙山道：“我本来是想去庐州的，毕竟是省会大城市嘛，但看了你的《庞加莱猜想暨几何化猜想的完全证明》之后，我还是挺心动的，觉得你们重光是有很强的核心技术的，毕竟你们设计的几款芯片和程控机名气现在都很大，所以我主动申请留下来了。”
胡一亭和康耀祥几乎同时道：“欢迎你加入重光！”
奚龙山仿佛要考考胡一亭和康耀祥，问道：“胡总工，康总工，我们这套光刻机也是成光所的，自从把线宽从微米调整到了.微米之后，透镜的热问题就很严重了，你们将来要把五倍物镜换成到倍，那你们打算怎么解决曝光能量的热问题，热后引起镜头变形和偏焦，长时间这么干，那可要把设备毁了的。”
听到奚龙山难，立刻有同事也参与进来：“胡工康工你们好，我叫王选玉，也是所的高级工程师，我想请问你们有什么办法解决光刻胶引起的显影缺陷吗？目前国内工艺里的光刻胶清洗中，残胶问题很突出，导致下一工序中的重复投影出现图形失效的问题很突出，你们的实验线有没有打算对这一问题进行改进？”
顾峡生一看这阵仗吓了一跳，心说这不是为难人家嘛，这个胡一亭数学水平再高，也对付不了你们这群术业有专攻的高工啊！高级工程师可是副教授级别，研究员级高级工程师是正教授级别。好家伙，这一群人里倒有一半是正教授，剩下一半副教授，你们一人问一个问题，这胡总就是有三头六臂也答不上来吧！他虽然是世界级数学天才，有精通i设计，但怎么说也不可能对工艺制程了解的像你们这么深啊！
“大家都别为难胡总和康总了，这些技术问题是所有晶圆厂的通病，你们这样问，让康总和胡总怎么回答嘛！”
康耀祥也讪讪地笑着，心说这还真不好回答，毕竟每个厂都有自己的工艺，解决问题的办法各不相同，真要笼统的回答，未免要被大家瞧不起，但若不结合具体问题来谈，那这个问题就没了边际，说道明天早上也说不完啊。
正当康耀祥犹豫着怎么说才合适的时候，胡一亭却很认真地开了口。
“这有什么难的，光刻机镜头是个大型组合镜头，光是镜片就有十几二十片，套筒一个接一个，想要完全避免几何畸变是不可能的，这个问题无论哪家光刻机厂商都有。
作为照明源的高压汞灯能量很高，曝光时的快门度只有零点几秒，自然是会导致镜头组件出现瞬间加热又瞬间冷却的几何畸变，但这些都是工程上的问题，我们做制程的不要去过多的考虑，不要去抱怨机子不如外国人的问题，要是机子和外国人一样好了，还要我们干什么！
我们要知道，制程工艺里是允许几何畸变的，甚至要利用几何畸变，先我们要摸清畸变的像场特征，从而在镜头对焦时寻找畸变误差最小的对位点，这既要求我们一次次的实验，寻找每个镜头的畸变像场特征，也要改进我们的硅片定位系统，改进激光干涉仪的精度，确保畸变可控。
我就只说这么一个思路吧，再多的我就不说了，都是技术机密。
至于光刻胶残留造成的显影缺陷，那就更容易解决了，我再说一遍我们是搞制程的，不是搞化学的，光刻胶今后再怎么进化，用聚乙烯醇肉桂酸脂也好，环氧橡胶双叠氮也好，酚醛树脂重氮萘脂也好，那都是化工企业的问题，他们厂家怎么改进配方，那都不是我们要关心的问题。
为了彻底脱胶，我的思路是上双层胶，降低胶膜对光源的反射，也就是目前国际上刚提出来的用抗反射剂来解决胶体残留影响曝光的思路，其中一层胶体在曝光下分解酸性气体，可以彻底清除残胶，解决残胶影响曝光的问题，从而解决显影缺陷。
好吧，我就说这么
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